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更新时间:2026-01-23
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了解臭氧氧化技术如何通过高效、紧凑的处理方案,帮助各行业满足日益严格的氮氧化物排放法规。
随着全球环境法规日益严格,各行业面临着越来越大的压力,需要减少生产过程中的氮氧化物(NOx)排放。NOx是地面臭氧和细颗粒物(PM2.5)的形成因素之一,而这两种物质都对人类健康和环境有害。因此,开发更高效、更紧凑、更经济的处理方法的需求比以往任何时候都更加迫切,尤其是在半导体制造、化学加工和其他高科技行业,这些行业通过高温燃烧或化学反应产生NOx。
例如,在韩国,政府通过《大气污染物总排放管理体系》(대기오염물질 총량관리제)实施更严格的排放控制,该体系为指定区域内的工业企业设定了年度氮氧化物(NOx)排放限值。这项法规影响到半导体和化工制造等行业,促使它们采用更清洁、更节省空间的技术,以达到减排目标并避免处罚。
传统氮氧化物控制技术的局限性
传统上,各行业依赖选择性催化还原(SCR)或选择性非催化还原系统(SNCR)来减少氮氧化物(NOx)排放。SCR 和 SNCR 都利用还原剂(通常是氨或尿素溶液)将氮氧化物还原为氮气和水蒸气,但 SCR 还需要催化剂。虽然在特定条件下有效,但 SCR 和 SNCR 也面临一些挑战:
高运行温度和高能耗:SCR(250-427°C) 1和SNCR(870-1150°C) 2的运行温度范围较高,通常需要额外的加热系统。这一要求也使得这些系统难以添加到现有基础设施中。
占地面积大且安装成本高:SCR的安装成本高昂且耗时,并且需要较大的安装空间。该设备体积庞大,难以集成到现有设施中。
维护成本高:SCR 中使用的催化剂需要定期更换或清洗,因为随着时间的推移,催化剂表面会形成沉积物。
一般来说,SCR 用于需要更高 NOx 控制的设施或较大的装置中,而 SNCR 是一种更经济实惠的解决方案,适用于较小的装置或可以接受适度 NOx 减少的情况。
臭氧氧化:一种高效的氮氧化物减排方法
臭氧氧化作为一种有效的替代选择性催化还原(SCR)和选择性非催化还原(SNCR)技术,或作为SNCR(尿素溶液)的补充步骤,在工业氮氧化物控制领域正日益受到关注。该方法无需高温和化学试剂,而是将臭氧(O₃)引入废气流中,臭氧与氮氧化物(NO和NO₂)反应生成五氧化二氮(N₂O₅)。五氧化二氮易溶于水,可通过湿式洗涤或类似工艺安全去除。
与 SCR 和 SNCR 相比,臭氧氧化占地面积更小,运行温度更低,因此特别适合低温烟气或改造应用。
与SCR和SNCR技术相比,臭氧系统具有以下几个实际优势:
臭氧系统在较低温度下仍能保持高效:与SCR和SNCR相比,臭氧系统在去除NOx方面更有效,能够帮助设施可靠地满足NOx排放限值。在高达150°C的工作温度范围内,臭氧系统能够以超过95%的效率去除NOx。这使其适用于改造项目以及温度难以控制的系统。
安装简便灵活:紧凑的模块化系统可以安装在屋顶或狭小的空间内——对于空间受限的城市工厂或改造项目来说尤其有价值。
更易于维护:由于不需要催化剂,与 SCR 装置相比,系统需要的维护更少,从而降低了成本和维护复杂性。
可扩展性:可轻松适应不同的容量需求,并可作为改造单元集成到现有基础设施中。然而,臭氧系统可能并非氮氧化物排放量巨大的设施
臭氧氧化结合了监管合规性、操作简便性和空间效率,为制造商提供了一种可持续的氮氧化物减排方法。
经验证的排放合规性能:WEDECO臭氧系统
WEDECO臭氧系统是可靠的高性能解决方案,可在严苛的工业环境中持续有效地降低氮氧化物排放。它提供灵活的控制和高效的臭氧发生功能,可根据您的工艺需求量身定制。主要特点包括:
EFFIZON® 3电极技术旨在提高臭氧生成效率,即使在波动的操作条件下也能确保稳定的高浓度臭氧输出。
坚固的设计:耐腐蚀的结构确保稳定运行,即使在氧气进料气体中碳氢化合物浓度很高的情况下也是如此——这在韩国使用的液氧系统中很常见。
灵活控制:臭氧输出可根据工艺需要,在几秒钟内从 5% 调节至 100%。
集成的仪器:内置传感器和控制装置支持自动化和安全操作。
占地面积小:简化的布局使其可以安装在屋顶上,从而释放宝贵的厂房地面空间。
维护成本低:持久耐用的组件可确保数十年的可靠运行,排气管享有 10 年保修——降低总体拥有成本。
利用臭氧技术推进工业氮氧化物减排
随着各国政府不断收紧氮氧化物排放限制,臭氧氧化技术正逐渐成为一种实用高效的替代方案,或可作为传统氮氧化物控制系统的补充步骤,以满足更严格的排放标准。对于寻求减少环境影响的行业而言,这项技术是一个值得考虑的可行选择。
凭借 Xylem 在高级氧化和现场集成方面数十年的经验,WEDECO 臭氧系统提供了一条行之有效的合规途径。
美国环保署空气污染控制成本手册,第 4.2 节,第 2 章,2.2.2 (P2-9)
2.空气污染控制技术概况介绍
EFFIZON 是 Xylem 或其附属公司在某些国家的注册商标。